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纯水设备物理清洗注意事项发表时间:2022-12-01 13:58 纯水设备的物理清洗注意事项 工业纯水设备采用反渗透膜分离技术,去除水中的细菌、病毒、有机物等有害物质,可用于电子、化工、医药、清洁、食品等行业,用途非常广泛,这些领域的用水都是由工业纯水设备来达到的。设备长期使用后,也需要清洗,避免影响产水水质,清洗分为化学清洗和物理清洗,那么纯水设备的物理清洗有哪些要求呢?
工业纯水设备的物理清洗注意事项 1.温度 温度的增加会加快反应过程,温度每增加10℃,清洗效果便会加倍。虽然取决于不同的污染物质,但最小温度还是需要的,就像除盐水厂使用的聚合有机膜不能超过50℃,若超出这个温度,会严重破坏膜,所以温度必须适当,适当的温度可以起到良好的效果。 2.机械力 流量与清洗效果之间有较大的关系,较高的流动速率会产生较高的湍流程度以及较好的乳化和分散特性。而流动速率的增加受到泵的能力、机械稳定性和经济上限制。对于反渗透膜来说,大部分的污染物和沉积层是直接位于膜表面的,所以在清洗时,尽可能降低膜的过滤能力,避免清洗过程中产生二次形成膜。可以先用低压清洗松动膜面滤饼,再将清洗液排除,最后改为高压清洗膜孔。 以上是工业纯水设备物理清洗的注意事项,定期对纯水设备进行清洗,以保证产水的水质,避免影响企业的生产效率。 上一篇纯水设备清洗方法
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